ELIPSÓMETRO DE MATRICE MULLER DE ALTA PRECISÃO ME-L totalmente automático

NegociávelAtualização em02/18

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O ME-L é um elipímetro de alta precisão de matriz de Müller totalmente automático de nível científico, que reúne anos de investimento da equipe científica na tecnologia de elipse, usando tecnologias inovadoras de ponta da indústria, incluindo compensador de desvio de cor, controle sincronizado de compensador de rotação dupla, análise de dados de matriz de Müller e muito mais. Pode ser aplicado a estruturas de películas finas de semicondutores, nanoestruturas periódicas de semicondutores, novos materiais, estudos de novos fenômenos físicos, ecrãs de painel plano, energia solar fotovoltaica, revestimentos funcionais, engenharia biológica e química, análise de materiais em blocos e uma variedade de materiais de películas finas homogênicas / heterogênicas com espessura de membrana, constantes de nano-rastre óptico e estruturas de materiais de nano-rastre unidimensional / bidimensional

Detalhes do produto

Modelo do produto	ELIPSÓMETRO DE MATRICE MULLER DE ALTA PRECISÃO ME-L totalmente automático
Características principais	1, a utilização de lâmpada de deutério e lâmpada de halogênio fonte de luz composta, cobertura espectral ultravioleta para infravermelho próximo (193-2500nm) 2, pode realizar o processamento de dados de matriz de Mueller, maior quantidade de informações de medição, velocidade de medição rápida, dados mais precisos Com base na configuração do compensador de rotação dupla, você pode medir todos os 16 elementos da matriz de Mueller de uma só vez, e obter informações de medição mais ricas e abrangentes em relação ao elipímetro espectral tradicional. Garantir que o espectro de banda de alta qualidade e estável seja fornecido em uma ampla gama de espectros Centenas de bancos de dados de materiais, várias bibliotecas de modelos de algoritmos, cobrindo a grande maioria dos materiais fotoelétricos atuais Análise integrada de nano-raster, que pode medir e analisar simultaneamente o ciclo de nanoestrutura, a largura da linha, a altura da linha, o ângulo da parede lateral, a rugosidade e outras informações geométricas
parâmetros técnicos	Aplicação: nível de pesquisa científica / nível empresarial Funções básicas: espectro Psi/Delta, R/T, matriz de Mueller, etc. Espectro de análise: 380-1000nm (suporte para expansão até 210-1650nm) Tempo de medição única: 1-8s Precisão de medição repetitiva: 0,005 nm Precisão (medição direta do ar) Parâmetros elípticos: ψ=45±0,05°ParParâmetroselípticos: ψ=0±0,1° Matriz de Mueller: elemento diagonal m = 1 ± 0,005; Elemento não diagonal m = 0 ± 0,005 Tamanho da mancha: grande mancha 2-3mm; micromancha 200μm
Configuração opcional	Seleção da faixa V: 380-1000nm UV: 245-1000nm XN: 210-1650nm DN +: 193-2500nm Escolha do ângulo Automático: 45-90° Manual: 55-75° (passo de 5°), 90° Fixação: 65° Outras opções Selecção de mapeamento: 100 x 100mm (para referência, personalizado sob demanda) Controle de temperatura: temperatura ambiente 1,600C (para referência, personalizado sob demanda)
Acessórios opcionais	1	Controle de temperatura
	2	Extensão Mapping
	3	Bomba de vácuo
	4	Componentes de adsorção de transmissão

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