Sistema de deposição de gás físico multicâmara de vácuo ultra-alto

SuperSistema de deposição de gás físico multicâmara de alto vácuo (PVD)

Este sistema é fabricado por fabricantes profissionais de equipamentos de sedimentação, configurado com vários modos de sedimentação (reservando várias interfaces funcionais), altamente flexível e perfeito para a pesquisa científica de vários modos de sedimentação.

Modo de sedimentação em condições de vácuo ultra-altas do sistema atual (somente com bomba mecânica + bomba molecular, vácuo máximo até 5X10E-10Torr). Vários modos de sedimentação combinados, a mesma cavidade realiza vários modos de sedimentação funcional, os modos de origem de sedimentação incluem:
Fonte de pulverização magnetrônica
Fonte de evaporação de feixe de eletrões
Fonte de evaporação térmica
O sistema é altamente flexível, fácil de operar com o software, especializado em depositar filmes ultrapuros para instituições de pesquisa, é um verdadeiro sistema de deposição de vácuo ultra-alto.
Parâmetros técnicos:
Vácuo limite: <5x 10E-10 torr (após 24 horas de refrigeração);
Uniformidade do revestimento: <3%
Transporte de amostras: Instalação conveniente no substrato
armário: ocupando espaço pequena estrutura;
Trabalho da mesa de amostra: rotação, aquecimento, pressão parcial de carga;
Operação da amostra: câmara de vácuo pré-bombeada;
Tamanho da amostra: 1", 2", 3", 4", 8", 12", etc.;
Monitoramento da espessura da membrana: microbalança de cristal de quartzo, elipímetro;
Cozinha: aquecimento incorporado ou aquecimento isolado externo;
Operação simples e totalmente automática do software: a aspiração de vácuo é totalmente automática e o programa é executado automaticamente.