Pequeno revestimento de pulverização de magnetrônio de alvo único

NegociávelAtualização em08/04

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Breve introdução: O pequeno revestimento de pulverização de magnetrônio de alvo único é um equipamento de revestimento de pulverização de magnetrônio de alta eficiência desenvolvido por nossa empresa, com características de miniaturização e padronização. O alvo magnetrónico tem 1 polegada, 2 polegadas para escolher, o cliente pode escolher independentemente de acordo com o tamanho da placa revestida

Detalhes do produto

Detalhes:

O pequeno revestimento de pulverização de magnetrônio de alvo único é um equipamento de revestimento de pulverização de magnetrônio de alta eficiência e qualidade desenvolvido por nossa empresa, com características de miniaturização e padronização. O alvo magnetrônico tem 1 polegada, 2 polegadas para escolher, o cliente pode escolher independentemente de acordo com o tamanho da placa revestida; A fonte de alimentação fornecida é de 150W DC e pode ser usada para revestimentos de pulverização de metais. O revestimento é equipado com uma interface de ventilação para entrar em gás protetor, e se o cliente precisar entrar em gás misturado, pode entrar em contato com a equipe para configurar o medidor de fluxo de massa de alta precisão para atender às necessidades experimentais. Os instrumentos são equipados com um conjunto avançado de bombas turbomoleculares com vácuo máximo de 1,0E-5Pa, enquanto outros tipos de bombas moleculares estão disponíveis.

Pequeno revestimento de pulverização de magnetrônio de alvo únicoÁmbito de aplicação:

Este dispositivo pode ser usado para preparar películas ferroelétricas de camada única, películas condutoras elétricas, películas de liga, etc. Este revestimento de pulverização de magnetrônio de alvo único, em comparação com equipamentos semelhantes, é projetado em miniatura, altamente integrado e compacto, pode ser colocado em uma mesa de trabalho e usado, é um equipamento ideal para preparar filmes de materiais em laboratório.

Pequeno revestimento de pulverização de magnetrônio de alvo únicoParâmetros técnicos:

Pequeno revestimento de pulverização de magnetrônio de alvo único
Banco de amostras	Dimensões	φ138mm	Precisão de temperatura	±1℃
Banco de amostras	Temperatura de aquecimento	* Alto500℃	Velocidade	1-20rpmAjustável
Cabeça de pulverização magnetrônica	Quantidade	2” x1（1”,2”Opcional)	Especificações do refrigerador de água	10L/minRefrigerador de água circulante com velocidade de fluxo
Cabeça de pulverização magnetrônica	Método de arrefecimento	Água Fria
Câmara de vácuo	Tamanho da Câmara	φ180mm × 215mm	Janela de observação	Transparência total
Câmara de vácuo	Materiais da cavidade	Quartzo de alta pureza	Abrir	Tipo de desmontagem da tampa superior
Sistema de vácuo	Modelo do produto	CY-GZK103-A	Interface de bombeamento	KF40
	Bomba molecular	CY-600	Interface de escape	KF16
	Bomba frontal	Bomba giratória	Medição de vácuo	Medidor de vácuo composto
	Vácuo extremo	1.0E-5Pa	Alimentação	AC;220V 50/60Hz
	Taxa de bombeamento	Bomba molecular:600L/S Bomba giratória:1.1L/S Desempenho de bombeamento integrado:20Vácuo por minuto:1.0E-3Pa
Configuração de energia	Quantidade	Alimentação DC×1	* Grande potência de saída	150W
Outros	Tensão de alimentação	AC220V,50Hz	Tamanho da máquina	500mm × 350mm × 400mm
	Potência da máquina	1.7KW (conjunto de bomba de vácuo 1.5KW + 0.2KW local)	Peso da máquina	30kg

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