Magnetron pulverização / evaporação de vácuo conjunto de revestimento composto. ..

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Breve introdução: O equipamento de revestimento composto de sputtering / evaporação de vácuo de magnetrônio combina a tecnologia de sputtering de magnetrônio e a tecnologia de evaporação de vácuo no mesmo equipamento de revestimento, usando a descarga de brilho do cátodo de sputtering de magnetrônio para pulverizar os átomos alvo e depor parcialmente ionizado no substrato em filme, ao mesmo tempo que pode ser usado no vácuo por aquecimento de resistência para fundir o revestimento metálico e deixá-lo vaporizar e depor no substrato em filme. Aumenta o uso e a flexibilidade do equipamento. Este dispositivo é usado para a metalização de superfícies plásticas, como caixas de telefones celulares, e para a deposição de filmes não condutores e membranas de blindagem eletromagnética.

Detalhes do produto

Detalhes:

Pulverização magnetrônica/O equipamento de revestimento composto de evaporação de vácuo combina a tecnologia de pulverização de magnetrônio e a tecnologia de evaporação de vácuo no mesmo equipamento de revestimento, tanto usando a descarga luminosa do cátodo de pulverização de magnetrônio para pulverizar os átomos de alvo e depositar parcialmente ionizado no substrato em filme, ao mesmo tempo que pode ser usado no vácuo para aquecer a resistência para fundir o revestimento metálico e deixá-lo vaporizar e re-depositar no substrato em filme. Aumenta o uso e a flexibilidade do equipamento. Este dispositivo é usado para a metalização de superfícies plásticas, como caixas de telefones celulares, e para a deposição de filmes não condutores e membranas de blindagem eletromagnética.

Pulverização magnetrônica/O equipamento de revestimento composto de evaporação de vácuo é equipado com um dispositivo de tratamento de plasma, um cátodo de pulverização magnetrônico de alta eficiência e um dispositivo de evaporação de resistência, etc., a taxa de deposição do equipamento é rápida, a adesão do revestimento é boa, o revestimento é delicado e denso, a superfície é alta e a uniformidade é boa; A máquina realiza o controle totalmente automatizado do processo de revestimento, grande carga, trabalho confiável, alta taxa de aprovação, baixo custo de produção e ecologia. Este equipamento é amplamente utilizado em caixas de computadores, caixas de telefones celulares, eletrodomésticos e outras indústrias, e pode revestir filmes metálicos, filmes de ligas, camadas de filmes compostos, filmes transparentes (semitransparentes), filmes não condutores, filmes de blindagem eletromagnética, etc.

Parâmetros técnicos do equipamento de revestimento composto de pulverização magnetrônica / evaporação a vácuo:

Modelo do produto		Pulverização magnetrônica/Vapor de vácuoEquipamento de revestimento compostoCY-MSE300S-DC
Banco de amostras		Tamanho da amostra	φ185mm
		Precisão de temperatura	±1℃
		Velocidade	1-20rpmAjustável
		Corrente de pulverização	2~20mA
		Tensão de pulverização	1000V
		Fonte de evaporação	cesta de seda de tungstênio
		* Alta temperatura	1700℃
		Controle de temperatura preciso	Configurável30Procedimento de refrigeração, precisão de controle de temperatura+/-1℃
Câmara de vácuo		Tamanho da Câmara	φ300mm × 300mm
		Janela de observação	φ100mm
		Materiais da cavidade	Aço inoxidável
		Abrir	Aberto em cima
Monitor de espessura de membrana	Componentes de monitoramento	Alimentação	DC5V（±10%* Grande corrente400mA
		Resolução de frequência	±0.03Hz
		Resolução da espessura da membrana	0.0136Å(Alumínio)
		Precisão da espessura da membrana	±0.5%Dependendo das condições do processo, especialmente a localização do sensor, a tensão do material, a temperatura e a densidade
		Velocidade de medição	100ms-1s/Segundo, pode ser configurado
		Alcance de medição	500000Å(Alumínio)
		Cristais de sensor padrão	6MHz
		Interface ao computador	RS-232/485Interface serial (taxa de portagem)1200、2400、4800、9600、19200、38400Configurável, bit de dados:8Para parar:1Verificação: Nenhuma)
		Saída analógica	8Resolução de bits,PWMSaída de modulação de largura de pulso (circuito aberto ou interno do eletrodo conjunto)5Vsaída)
		Ambiente de trabalho	Temperatura0-50℃Umidade.5%-85%RHNão tem que haver bolas de água condensada.
	Monitor	Alimentação de entrada	AC 220V±10%
		Alimentação de saída	DC 5V 3A
		Monitor	12×2tubos digitais eLED
		Porta de comunicação	RS-485(Taxa de Potter)1200、2400、4800、9600、19200、38400Configurável, bit de dados:8Parar, parar:1Bits Verificação de paridade: nenhuma)
	Sonda	Aplicar a frequência do chip	6MHz
		Tamanho do chip aplicável	Φ14mm
		Instalação de flanges	CF35
		Tubos de água de resfriamento	Φ3mmcomprimento.300mm、500mm、1000mm
		Pressão de água de resfriamento	<0.3MPa
		Tubo de barreira pneumática	Φ3mm
		Temperatura de assado	Estado da água<200℃Flange sem água<100℃
		Interface elétrica	BCNSocket
Medidor de fluxo de massa		2estrada; Dimensão100sccm；100sccm(vias de gás múltiplas podem ser personalizadas de acordo com as necessidades do cliente)
Sistema de vácuo		Modelo do produto	CY-GZK103-A
		Interface de bombeamento	KF40
		Bomba molecular	CY-600
		Interface de escape	KF16
		Bomba frontal	Bomba giratória
		Medição de vácuo	Medidor de vácuo composto
		Vácuo extremo	1.0E-5Pa
		Alimentação	AC;220V 50/60Hz
		Taxa de bombeamento	Bomba molecular:600L/S Bomba giratória:1.1L/S Desempenho de bombeamento integrado:20Vácuo por minuto:1.0E-3Pa
Acessórios opcionais		Vários alvos como ouro, índio, prata e platina.
Garantia		Garantia de um ano, suporte técnico ao longo da vida.

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